美國 KRi 霍爾離子源輔助鍍膜 IBAD 應用

時間：2024-01-12

作者：伯東企業（上海）有限公司

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詞條說明
HVA 真空閥門應用于E-Beam 鍍膜機
某品牌?Sputtering + E-Beam PVD?鍍膜機系統采用?HVA?真空閥門?11000, HVA?真空閥門安裝在分子泵口便于泵的檢修,同時外系統停機時不破壞系統真空,?只要對泵內部進行破真空即可.E-Beam?鍍膜機設備組成:?系統主要由蒸發室,?電子,?進樣室
KRI 射頻離子源輔助沉積鍍制385nm紫外帶通濾光片
?帶通濾光片也叫干涉濾光片,?主要起到過濾不想要的雜光,?只讓想要的光通過的作用. 385nm?紫外帶通濾光片是帶通濾光片中一款?UV?紫外波段的濾光片,?廣泛應用于熒光檢測,?多波段濾光片.?它具有高透過率,?其深截止可保探測器接收不到其它波長的光,?因此可保證圖像的高亮度和大的信噪比.
美國 KRi 霍爾離子源輔助鍍膜 IBAD 應用
上海伯東美國?KRi 霍爾離子源?EH 系列, 提供高電流低能量寬束型離子束, KRi?霍爾離子源可以以納米精度來處理薄膜及表面, 多種型號滿足科研及工業, 半導體應用.?霍爾離子源高電流提高鍍膜沉積速率, 低能量減少離子轟擊損傷表面, 寬束設計提高吞吐量和覆蓋沉積區. 整體易操作, 易維護, 安裝于各類真空設備中, 例如 e-beam 電子束鍍膜機, lo
上海伯東提供適用于薄膜太陽能電池生產的離子源和真空系統
? ? ?在沒有真空的情況下，可再生能源的發展是不可能的。以光伏發電（Photovoltaics，PV）為例，這是一種為大家所熟知的能源轉化方式，通過太陽能電池將太陽輻射能轉化為電子流，進而生成電能。? ? ? ?太陽能電池技術有許多種類，其中一種主要的技術是基于薄膜沉積。這種方法的主要優點在于，它在制造太陽能電池時消耗的材料較