PVD技術在半導體器件中的應用

時間：2024-07-18

作者：鵬城半導體技術（深圳）有限公司

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鵬城半導體|HFCVD熱絲化學氣相沉積設備高性價比生產廠家臺風快訊
金剛石是一種典型的多功能限材料，在電學、光學、熱學、力學聲學和電化學方面具有優異性能，在眾多GAO*XIN*技術領域具有廣闊的應用前景。20世紀80年代之后，化學氣相沉積（CVD）技術制備金剛石涂層促進了其廣泛的應用，引發了席卷的“金剛石熱”。90年代后，隨著金剛石涂層工業化制備技術的出現，金剛石涂層產業開萌生。金剛石涂層工具、金剛石熱沉、金剛石光學窗口、金剛石膜基探測器及傳感器和金剛石電等一系列
真空鍍膜機適用范圍介紹
真空鍍膜機應用領域很廣泛，各行各業都有用到，光學領域，汽車裝飾零配件，電子，陶瓷等等，用在不同的行業，真空鍍膜機名字不一樣，下面詳細和大家劃分一下類目，希望能幫助到大家:1、建筑五金：衛浴五金（如水龍頭）．門鎖．門拉手．衛浴、五金合葉、家具，表殼．表帶的鍍膜、水晶制品等，鍍膜是為了提高表面的顏色，我們統稱為裝飾真空鍍膜機。2、用在電子，科技領域，如汽車激光雷達，抬頭顯示器HUD，電子后視鏡，光學鏡
熱絲CVD金剛石解決方案
【前言】金剛石是自然界已發現的具有較高的硬度、強度、耐磨性材料，金剛石具有的熱導率、透過波段、聲速以及半導體特性和化學惰性等綜合性能使其成為當今世界上較優秀的*材料。上世紀80年代初期通過化學低壓氣相沉積生成金剛石薄膜(CVD)技術**突破性進展，經過多年的研究發展，CVD金剛石生長技術已日漸成熟。目前已有四種形態的CVD金剛石產品進入市場，它們是：1)純多晶金剛石厚片 2)涂層金剛石；3)大
化學氣相沉積設備（CVD）-小型管式LPCVD設備
LPECVD是在低壓高溫的條件下，通過化學反應氣相外延的方法在襯底上沉積各種功能薄膜（主要是Si3N4、SiO2及Poly硅薄膜）。可用于科學研究、實踐教學、小型器件制造。小型管式LPCVD設備設備結構及特點1、小型化，方便實驗室操作和使用，大幅降低實驗成本兩種基片尺寸2英寸或4英寸；每次裝片1～3片。基片放置方式：配置三種基片托架，豎直、水平臥式、帶傾角。基片形狀類型：不規則形狀的散片、φ2～4